東京・駒場の東京大学駒場リサーチキャンパス内にあるENEOSホールにて、特別レクチャー「都市は文化をどう育てるのか ― ロンドンと東京から考える、創造性と文化のプラットフォーム」が11月1日に開催されます。
聴講は無料。ただしPeatixイベントページからチケットの予約が必要です。
本イベントは、東京大学先端科学技術研究センター 先端アートデザイン分野が主催するレクチャーシリーズで、今回がその第1弾。今後も、デザイン、アート、テクノロジー、文化など、多様な領域の第一線で活躍する実践者を迎え、分野や領域を越えた対話を通じて、これからの社会や文化の可能性を探っていく予定です。
「「ロンドン・デザイン・フェスティバル」の共同創設者・ディレクターであるベン・エバンスと、都市開発、文化芸術、デザインに関わる多様なプロジェクトを手がけ、現在は「ARTE TOKYO(東京国際文化芸術祭)」の統括プロデューサーを務める齋藤精一の両氏を迎えます。「都市は文化をどう育てるのか」をテーマに、ロンドンと東京でのそれぞれの実践を通して、文化や創造性を育む「場」やプラットフォームの役割と可能性について議論していきます。
クリエイターの創造的な活動を支え、新たな出会いや挑戦を生み出すには、どのような環境が必要なのか? 展覧会やフェスティバルを一過性のイベントで終わらせず、都市の文化として根づかせていくには何が求められるのか? ロンドンと東京、2つの都市の視点から、文化が育まれる環境と、これからの都市の可能性を考えます。登壇者プロフィール
登壇者(左から):ベン・エバンス、齋藤精一、モデレーターを務める吉本英樹の3氏
ベン・エバンス
ロンドン・デザイン・フェスティバル共同創設者・ディレクター、グローバル・デザイン・フォーラム チェアマン
2003年サー・ジョン・ソレル CBEとともに「ロンドン・デザイン・フェスティバル」を共同設立(同フェスティバルは毎年約400のパートナー団体が参加し、延べ約100万件の来場を記録する国際的なデザインイベントである)。ロンドン芸術大学理事、ラウンドハウス理事、アートエンジェル評議員などを歴任。2017年からロンドン市長の諮問機関・文化リーダーズ・ボードの議長を務める。1989年に英国ロイヤル・カレッジ・オブ・アートを卒業、2010年に同大学院から名誉学位を授与された。2019年クリエイティブ産業への貢献により、大英帝国勲章コマンダー(CBE)を受章。
https://londondesignfestival.com/齋藤精一
パノラマティクス主宰、アブストラクトエンジン代表取締役、「ARTE TOKYO(東京国際文化芸術祭)」統括プロデューサー
建築デザインをコロンビア大学建築学科で学び、2006年ライゾマティクス(現:アブストラクトエンジン)を設立。2020年「CREATIVE ACTION」をテーマに、産官学を越境した地域デザインや都市開発、アートプロジェクトを手がけるデザインコレクティブ「パノラマティクス」を結成。2023〜2025年度、グッドデザイン賞審査委員長。2024年より、Roof Park Project 共創プラットフォーム クリエイティブコンダクター。2025年、大阪・関西万博EXPO共創プログラムディレクター。今年が初開催となる「ARTE TOKYO(東京国際文化芸術祭)」の統括プロデューサーを務める。
https://abstractengine.com/吉本英樹
東京大学先端科学技術研究センター特任准教授、デザイナー / クリエイティブディレクター
1985年和歌山県生まれ。2010年に東京大学大学院航空宇宙工学専攻修士課程、2016年に英国ロイヤル・カレッジ・オブ・アートIDE専攻博士課程を修了。2015年、ロンドンにデザインスタジオTangentを設立。2020年、東京大学にて先端アートデザイン分野を共同設立し、ロンドンと東京を拠点に活動。デザインとエンジニアリングの融合を通じて、世界的なラグジュアリーブランドのデザインや新規事業開発、まちづくりまで幅広く手がける。近年は、日本の伝統工芸と先端技術をつなぐ国際的な取り組み「Craft x Tech」を創立し、日本文化の進化・継承にも取り組む。
https://www.tngnt.uk/
https://craft-x-tech.com/
ゲスト:ベン・エバンス、齋藤精一
モデレーター:吉本英樹
プログラム:
オープニング:吉本英樹
基調講演:ベン・エバンス
クロストーク:ベン・エバンス、齋藤精一
※プログラムの内容・登壇者は予告なく変更になる場合あり
※言語:日本語(英語での発言には逐次通訳が入る)
日時:2026年11月1日(日)10:30-12:20(10:00開場)
会場:ENEOSホール
所在地:東京都目黒区駒場4丁目6-1 東京大学駒IIキャンパス 先端科学技術研究センター3号館南棟1階(Google Map)
定員:160名 ※申し込み多数につき10月24日に増席
参加費:無料(ただし、下記Peatixページからチケット予約が必要)
https://fdl-rcast-20261101.peatix.com/